PVD真空电镀的功能原理

PVD真空电镀的原理主要是物理气相沉积，是目前国际上广泛应用的一种先进的表面处理技术。其工作原理是真空条件下通过气体放电使气体或蒸发材料部分电离，并气体离子或蒸发材料离子轰击下将蒸发材料或其反应物沉积衬底上。

PVD真空镀膜的功能和原理如何？

PVD真空电镀具有沉积速度快、表面清洁的特点，尤其具有膜层附着力强、卷绕性好、电镀材料种类广等优点。森泰镀膜采用世界先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，并此基础上与国际专家进行工艺创新。凭借装饰电镀行业十多年的宝贵经验，我们为客户提供合适的涂层加工方案。

PVD真空电镀具有抗氧化、耐腐蚀、耐腐蚀、化学性能稳定、耐酸等特点。手机外壳耐PVD涂层，且涂层外壳容易去除油漆和指纹。强光照、盐碱湿地和城市环境中，不会失去光泽、氧化、褪色和脱落。高耐磨、耐划伤，不易划伤。电镀材料种类繁多，与基体结合力强。